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2024年11月29日 常用的制备碳化硅粉体方法有碳热还原法、机械粉碎法、溶胶–凝胶法、化学气相沉积法和等离子体气相合成法等等。本文对SiC粉体的制备、碳化硅陶瓷烧结技术和应用进行系统综述和总结，并对未来可能的研究方向进行了展望。2024年12月13日 本发明涉及碳化硅微粉的制备领域，尤其涉及一种高纯度碳化硅微粉的制备工艺。背景技术： 1、碳化硅作为一种重要的宽禁带半导体材料，具有优异的物理和化学性能，如高硬度、高热导率、高化学稳定性等，在半导体、电子、新能源、航空航天等众多领域都有着广泛的应 一种高纯度碳化硅微粉的制备工艺的制作方法 - X技术网
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以上概述了碳化硅微粉的生产方法。 碳化硅微粉的具体生产工艺可根据不同的应用领域和要求进行调整。 近年来，随着技术的进步，碳化硅粉末的应用范围越来越广泛，尤其是在半导体、陶瓷和耐火材料领域。 耐火材料： 碳化硅粉是冶金、建材和化工等行业制造高温炉、窑、坩埚等耐火材料的重要原料。 碳化硅粉的耐高温性能超过 2000°C，适用于生产炉衬砖和炉衬板，可有效延长 1.制造陶瓷材料：碳化硅微粉具有高硬度、高强度、耐高温等特点，可以用于制备陶瓷材料，如陶瓷刀具、陶瓷瓷砖等。 由于其独特的性能，碳化硅陶瓷具有优异的耐磨、耐腐蚀、耐高温等特点，被广泛应用于机械、化工、冶金等行业。碳化硅微粉的应用与生产方法_百度文库
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2016年6月14日 要:本文以不同粒径的硅粉和纳米碳黑为原料,采用微波加热在真空下合成SiC微粉,研究了反应温度、反应时间和原料粒径对反应产物的物相、SiC生成率及其形貌的影响。 结果表明,反应温度达到1000 C 时,Si 和C 开始反应生成SiC ;在1200 C 时反应30 min即可基本实现Si 和C 的充分反应,得到平均粒径约为100 nm 的SiC 微粉,且SiC 的生成率达到95% 以上。 此外,本文还 1997年11月5日 本发明涉及碳化硅 (α-Sic)的有关生产技术，是一种以石英粉为主要原料，配料后经低温碳热还原，直接生成α-Sic粉料的工艺方法。 它适用于工业化生产α-Sic粉料 (料粉含α-Sic≥94％，平均粒度≤1μM)的特殊要求。 α-SiC (高温型碳化硅)属于一种性能优异的人造材料，它在现代技术的许多领域中均具有极其重要的适用价值。 鉴于此况，国内外有关部门和技术人 一种直接生成高纯α-SiC微粉的工艺方法 - X技术网
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2024年6月6日 本发明涉及微粉材料制备领域，具体公开了一种无压烧结碳化硅制品用碳化硅微粉的制备工艺；本发明通过选用液态硅源、液态碳源和催化剂作为碳化硅微粉的制作原料，相比于一般碳化硅微粉的制作方法，生成的碳化硅微粉内部虽然含有极少量的硫杂质，但是不本申请提供的一种碳化硅微粉制备工艺,涉及碳化硅微粉制备技术领域.包括:取预设重量的块体状碳化硅备用;将块体状碳化硅依次进行三次破碎研磨,最后得到粒度值最大为预设值的碳化硅原料;将碳化硅原料加入到料仓,同时启动气流分级机,调节各个分级轮转速和引风一种碳化硅微粉制备工艺 - 百度学术
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本发明公开了一种碳化硅微粉的制备方法,包括将碳化硅微粉进行酸碱洗提纯步骤,将提纯后碳化硅颗粒按重量比1:24与水混合搅拌打浆步骤,采用研磨介质为粒径37mm的单晶碳化硅的研磨步骤和脱水,烘干脱水后烘干步骤.本发明采用表面圆滑近表现形式的单晶体2024年7月19日 碳化硅（SiC），作为关键的工业原料，因其卓越的物理与化学特性——高熔点、优异的热导率、出色的抗氧化性和高温强度、以及卓越的化学稳定性和耐磨性，在众多领域中扮演着不可或缺的角色。 其早期制备主要依赖于碳热还原法，即 Acheson 法，此法因原料成本低廉和工艺简便，成为工业化合成 SiC 粉体的基石。 1 、 固相法 碳热还原法（Acheson 法） 由 碳化硅（SiC）粉体制备技术综述：从传统到前沿金蒙新材料 ...
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2024年11月29日 常用的制备碳化硅粉体方法有碳热还原法、机械粉碎法、溶胶–凝胶法、化学气相沉积法和等离子体气相合成法等等。本文对SiC粉体的制备、碳化硅陶瓷烧结技术和应用进行系统综述和总结，并对未来可能的研究方向进行了展望。2024年12月13日 本发明涉及碳化硅微粉的制备领域，尤其涉及一种高纯度碳化硅微粉的制备工艺。背景技术： 1、碳化硅作为一种重要的宽禁带半导体材料，具有优异的物理和化学性能，如高硬度、高热导率、高化学稳定性等，在半导体、电子、新能源、航空航天等众多领域都有着广泛的应 一种高纯度碳化硅微粉的制备工艺的制作方法 - X技术网
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以上概述了碳化硅微粉的生产方法。 碳化硅微粉的具体生产工艺可根据不同的应用领域和要求进行调整。 近年来，随着技术的进步，碳化硅粉末的应用范围越来越广泛，尤其是在半导体、陶瓷和耐火材料领域。 耐火材料： 碳化硅粉是冶金、建材和化工等行业制造高温炉、窑、坩埚等耐火材料的重要原料。 碳化硅粉的耐高温性能超过 2000°C，适用于生产炉衬砖和炉衬板，可有效延长 1.制造陶瓷材料：碳化硅微粉具有高硬度、高强度、耐高温等特点，可以用于制备陶瓷材料，如陶瓷刀具、陶瓷瓷砖等。 由于其独特的性能，碳化硅陶瓷具有优异的耐磨、耐腐蚀、耐高温等特点，被广泛应用于机械、化工、冶金等行业。碳化硅微粉的应用与生产方法_百度文库
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2016年6月14日 要:本文以不同粒径的硅粉和纳米碳黑为原料,采用微波加热在真空下合成SiC微粉,研究了反应温度、反应时间和原料粒径对反应产物的物相、SiC生成率及其形貌的影响。 结果表明,反应温度达到1000 C 时,Si 和C 开始反应生成SiC ;在1200 C 时反应30 min即可基本实现Si 和C 的充分反应,得到平均粒径约为100 nm 的SiC 微粉,且SiC 的生成率达到95% 以上。 此外,本文还 1997年11月5日 本发明涉及碳化硅 (α-Sic)的有关生产技术，是一种以石英粉为主要原料，配料后经低温碳热还原，直接生成α-Sic粉料的工艺方法。 它适用于工业化生产α-Sic粉料 (料粉含α-Sic≥94％，平均粒度≤1μM)的特殊要求。 α-SiC (高温型碳化硅)属于一种性能优异的人造材料，它在现代技术的许多领域中均具有极其重要的适用价值。 鉴于此况，国内外有关部门和技术人 一种直接生成高纯α-SiC微粉的工艺方法 - X技术网
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2024年6月6日 本发明涉及微粉材料制备领域，具体公开了一种无压烧结碳化硅制品用碳化硅微粉的制备工艺；本发明通过选用液态硅源、液态碳源和催化剂作为碳化硅微粉的制作原料，相比于一般碳化硅微粉的制作方法，生成的碳化硅微粉内部虽然含有极少量的硫杂质，但是不本申请提供的一种碳化硅微粉制备工艺,涉及碳化硅微粉制备技术领域.包括:取预设重量的块体状碳化硅备用;将块体状碳化硅依次进行三次破碎研磨,最后得到粒度值最大为预设值的碳化硅原料;将碳化硅原料加入到料仓,同时启动气流分级机,调节各个分级轮转速和引风一种碳化硅微粉制备工艺 - 百度学术
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本发明公开了一种碳化硅微粉的制备方法,包括将碳化硅微粉进行酸碱洗提纯步骤,将提纯后碳化硅颗粒按重量比1:24与水混合搅拌打浆步骤,采用研磨介质为粒径37mm的单晶碳化硅的研磨步骤和脱水,烘干脱水后烘干步骤.本发明采用表面圆滑近表现形式的单晶体2024年7月19日 碳化硅（SiC），作为关键的工业原料，因其卓越的物理与化学特性——高熔点、优异的热导率、出色的抗氧化性和高温强度、以及卓越的化学稳定性和耐磨性，在众多领域中扮演着不可或缺的角色。 其早期制备主要依赖于碳热还原法，即 Acheson 法，此法因原料成本低廉和工艺简便，成为工业化合成 SiC 粉体的基石。 1 、 固相法 碳热还原法（Acheson 法） 由 碳化硅（SiC）粉体制备技术综述：从传统到前沿金蒙新材料 ...
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2024年11月29日 常用的制备碳化硅粉体方法有碳热还原法、机械粉碎法、溶胶–凝胶法、化学气相沉积法和等离子体气相合成法等等。本文对SiC粉体的制备、碳化硅陶瓷烧结技术和应用进行系统综述和总结，并对未来可能的研究方向进行了展望。2024年12月13日 本发明涉及碳化硅微粉的制备领域，尤其涉及一种高纯度碳化硅微粉的制备工艺。背景技术： 1、碳化硅作为一种重要的宽禁带半导体材料，具有优异的物理和化学性能，如高硬度、高热导率、高化学稳定性等，在半导体、电子、新能源、航空航天等众多领域都有着广泛的应 一种高纯度碳化硅微粉的制备工艺的制作方法 - X技术网
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