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平面研磨的运动轨迹及原理

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平面研磨的运动轨迹及原理

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行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 机械工程论文 - 道 ...

2012年6月23日  基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 星级: 4 页 行星式平面研磨机床的运动方式及其轨迹和运动参数的研究2015年4月16日  由运动学原理可知:在这两个回转运动之间可以 确定一对相互纯滚动的圆 (C1)、 (C2),称为节圆 (瞬心轨迹圆),它们在中心距上的切点P称为节 点 (瞬心);此外,这两个回转运动的 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 - 豆丁网

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X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - 百度学术

针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究.建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,X-Y联动轨 2023年10月16日  摘要:针对传统平面研磨方法中,工件中心研磨轨迹重复率高,研磨速度径向分布不均的缺点,基于 固着磨料研磨技术提出一种变位自转式双平面研磨加工方法。变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验

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研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗

2018年6月1日  摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱动式和直线 2017年9月7日  摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径、初 X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - nwpu.cn

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UNIPOL-802平面研磨机研磨轨迹的研究 - 百度学术

推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考察区域等 2023年12月24日  为了提高摆动固定磨料平面研磨(SFAPL)的表面精度,本文研究了工件摆动方式对研磨均匀性的影响。 根据曲柄摇杆机构的运动学原理,采用坐标变换方法建立了SFAPL的 摆动固定磨料平面研磨的运动学和轨迹分析:摆动方式对研磨 ...

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平面研磨的运动模型 - 百度学术

对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数对研磨运动轨迹形状的影响,根据 2024年6月20日  平面研磨机在加工中,选择合理地运动方式以及研磨轨迹是极为重要的一步,研磨运动中主要的是在于实现磨料的切削运动,因此运动状况的好坏,将会直接的影响研磨加工时的精度以及生产的效率。浅谈平面研磨机的研磨运动对工件的影响_深圳市海德

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基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 - 道客巴巴

2015年1月13日  第38卷第6期机械工程学报v。1.38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要:分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点、节圆入手,将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了 ...平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化-2007年11月第八届全国摩擦学大会论文集November 2007平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化卢万佳 李维民 杨华(深圳开发磁记录殷份有限公司厂东深圳518035)摘要:为提高硬磁盘基片平面研磨的加工品质 ...平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 - 百度文库

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球磨机的工作原理及机内运动轨迹分析 - 知乎

2020年4月28日  球磨机被广泛用于矿山、建筑材料、耐火材料、玻璃陶瓷等行业作为磨粉作业的主要设备。那么球磨机的工作原理及运动轨迹你都了解么?下面小编带你深入了解其原理及运动轨迹。 一、球磨机工作原理球磨机的主要部分“行星式双平面多工件研磨盘设计-[5]田业冰,金洙吉,康仁科,等.硅片自旋转磨削的运动几何学分析[J].中国机械工程,2005,16(20):1798-1802.1.1 行星式研磨原理及轨迹平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构,如图1所示,被加工件放在行星轮孔内,行星行星式双平面多工件研磨盘设计 - 百度文库

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UNIPOL-802平面研磨机研磨轨迹的研究 - 百度学术

本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件,以UNIPOL-802平面研磨机为试验平台,运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法,从磨粒运动轨迹的角度着手,重点研究了平面研磨加工时工件转速及加工表面质量的影响因素,主要内容如下: 对平面研磨技术基础概念行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。 从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动化为在定中心距条件下工作与研磨盘相对于假想系杆的两相绕定轴的回转运动,根据其速比的取值不同,将行星式平面研抛运动归结为3种类型;分析了其轨迹曲线类 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 - 百度文库

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基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 - 百度文库

基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点,节圆入手,将复杂的 研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘,研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及 ...关键词: 平面研磨机;研磨轨迹;表面质量;计算机仿真;工件转速 授予单位: 东北大学 授予学位: 硕士 学科专业: 机械制造及其自动化 导师姓名: 原所先 学位年度: 2010 语种: 中文 分类号: TG580.68 页数: 83 在线出版日期: 2014-02-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时 UNIPOL-802平面研磨机研磨轨迹的研究

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行星式双面研磨的加工原理及重要意义 - 综合新闻 - 方达研磨 ...

2016年6月28日  在加工过程中工件表面的磨粒轨迹由上研磨盘、下研磨盘、太阳轮和齿圈的转速共同决定,磨粒轨迹直接影响着工件表面材料的去除效率,工件相对于研磨盘的运动轨迹影响着盘面的磨损情况,在双面研磨轨迹均匀性研究方面,磨粒相对于工件的运动轨迹均匀性和行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。 从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动化为在定中心距条件下工作与研磨盘相对于假想系杆的两相绕定轴的回转运动,根据其速比的取值不同,将行星式平面研抛运动归结为3种类型;分析了其轨迹曲线类 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 - 百度文库

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平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究 - 道客巴巴

2019年9月2日  《半导体光电017年6月第38卷第3期杨晓京等:平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究DOI:10.16818/j.issnl001—5868.017.03.011平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究杨晓京,李明昆明理工大学机电工程学院,昆明650500摘要:为提高平面光学元件的加工质量和效率,理解元件与抛光盘之间的相对 ...第4章在分析双平面研磨加工原理的基础上,对工件的受力情况进行 了分析和仿真,同时运用ADAMS软件进行了研磨轨迹仿真分析。第5章在第4章分析得出的优化工艺参数基础上,采用滑模控制策略开展了对比研磨试验,验证了双平面研磨 平面研磨加工机理研究——刘清 著--机械工业出版社

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行星式双平面多工件研磨盘设计_边培莹 - 百度文库

[1 ] 根据已有研究, 平面研磨轨迹主要有 4 种 : 1 ) 直线 式研磨运动轨迹。主要是用于台阶等狭长工件平面的研 现代制造中对机械零件的加工精度和表面品质提出 研磨技术成为精密加工技术中的一种 , 在 了更高的要求, 机械加工中应用越来越广泛 , 因此其研磨精度与效率成为 尤为重要 基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析-分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理,以节点,节圆入手,将复杂的 研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动,分析了工件相对于研磨盘,研磨盘相对于工件的轨迹曲线,以及 ...基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 - 百度文库

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X-Y平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 - 百度学术

摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了X-Y联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究.建立了该X-Y联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,X-Y联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究.对试件研磨表面 2011年12月23日  要正确处理好研磨的运动轨迹是提高研磨质量的重要条件。在平面研磨中,一般要求:①工件相对研具的运动,要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近;②工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面,以利于研具均匀磨损;③运动轨迹的曲率变化要小,以保证工件研磨工艺原理 - 豆丁网

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研磨机研磨运动的分析 - 豆丁网

2020年10月23日  本文先通过介绍研磨、研磨机的起源和发展,还有对其未来景况的展望,让读者了解了研磨技术、研磨机以及研磨运动,并且通过对当下最为典型的两类研磨机的运动轨迹的案例分析,进一步理解和展示了研磨机的工作原理和当下对于研磨运动轨迹的研究成果,为密封面研磨的基本原理包括研磨过程、研磨运动、研磨速度、研磨压力及研磨余量五个方面. 1.研磨过程 研具与密封圈表面很好的贴... 在线咨询 通过轨迹插补和实时控制,在每个伺服控制周期给出各个联动坐标轴的运动增量,实时控制所有坐标轴的联动.平面研磨的运动轨迹及原理 - betway彩票

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平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 - 道客巴巴

2012年7月30日  2007年11月第八届全国摩擦学大会论文集November2007平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化卢万佳李维民杨华(深圳开发磁记录殷份有限公司厂东深圳518035)摘要:为提高硬磁盘基片平面研磨的加工品质,本文利用计算机仿真对其研磨盘的修盘工艺进行运动学模拟,通过统计修盘器磨片相对研磨盘所划 ...研磨,汉语词汇。拼音:yán mó 研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各种金属和非金属材料,加工的表面形状有平面,内、外圆柱面和圆锥面,凸、凹球面,螺纹,齿面及其他形面。 研磨_百度百科

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机械毕业设计-平面双面研磨机构的设计 - 豆丁网

2013年12月23日  (3)螺旋形研磨运动轨迹。主要用于圆片形或圆柱形工件端平面研磨,能获得较高的平面度和较小的表面粗糙度。(4)“8”字形研磨运动轨迹。适用于平板类工件的修整和小平面工件的研磨,能使相互研磨的平面介质均匀接触,并且研具均匀地磨损。密封面研磨的基本原理包括研磨过程、研磨运动、研磨速度、研磨压力及研磨余量五个方面. 1.研磨过程 研具与密封圈表面很好的贴... 在线咨询 通过轨迹插补和实时控制,在每个伺服控制周期给出各个联动坐标轴的运动增量,实时控制所有坐标轴的联动.平面研磨的运动轨迹及原理

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第七章 球磨机 1球磨机工作原理及研磨体运动分析 - 百度文库

7.1.2.5研磨体运动最内层半径 研磨体最内层是指 运动着的研磨体在某一最 小半径R2圆弧上,随筒 体回转提升至一定高度 后,仍能按抛物线轨迹 降落,降落点处于极限 位置 第四篇 7 球磨机 7.1球磨机工作原理及球磨机研磨体运动分 析 7.2球磨机构造及主要零2017年3月10日  主要用于工件内、外圆柱面,平面及圆锥面的研磨。模具零件研磨时常用。 3)机械研磨:工件、研具的运动均采用机械运动。加工质量靠机械设备保证,工作效率比较高。但只能适用于表面形状不太复杂等零件的研磨。 (2)按研磨剂的使用条件什么是研磨?它的基本原理是什么?

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变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验 - nwpu.cn

2013年3月21日  摘要: 针对传统平面研磨方法中,工件中心研磨轨迹重复率高,研磨速度径向分布不均的缺点,基于固着磨料研磨技术提出一种变位自转式双平面研磨加工方法。 工件在研具的运动中获得变化的研磨力,在隔离盘内实现变位自转的研磨运动形式。从研磨原理上改变了传统研磨加工中工件的运动模式,增加了 ...2009年6月4日  图2a、b 分别为放射线研磨轮和螺线研磨轮的加 工轨迹示意图。从图中研磨轮和工件的相对运动关系 可得出:螺线研磨轮螺线长度方向平行于研磨轮在工 件上的切削轨迹,加工中脱落的磨粒和切屑不易从沟 槽中排出,因此工件表面发生局部破碎现象。放射线 研磨轮的超精密平面研磨加工参数对精度的影响 X - CORE

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行星式双面研磨轨迹均匀性研究 - 道客巴巴

2016年4月10日  行星式平面研磨机床的运动方式及其轨迹和运动 参数的研究 星级: 2 页 基于UG的蓝宝石衬底基片双面研磨轨迹研究 ... 均匀性和工件相对于研磨盘的轨迹均匀性的研究对改善工件的加工精度和表面质量有重要的意义。图 1摇 双面研磨加工原理图摇 ...研磨机研磨运动轨迹分析-研磨是一种利用磨具通过磨料作用于工件表面,进行微量加工的工艺方法。针对某端面研磨机的设计,提出两自由度差动轮系机构的主传动方案,分析工件与研具之间的相对运动。采用Matlab软件进行运动轨迹仿真,结果表明:研磨机中行星研磨机研磨运动轨迹分析 - 百度文库

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新型驱动方式的单面平面研磨加工研究-学位-万方数据知识 ...

本文提出了一种新型驱动方式的单面平面研磨加工方法,基于无理转速比下的圆弧形摆动驱动研磨加工方式,对运动轨迹均匀性进行了深入的研究,并自主设计搭建了试验平台并开展了相关试验研究。 主要研究工作如下: (1)基于平面运动学原理,利用 ...平面研磨轨迹的研究-(3)外摆线研磨轨迹根据数学上定义,一圆T在一固定圆M的圆周外滚动,滚动圆T上一点A的轨迹即为外摆线。 ... 【摘 要】以10mm以下量块工艺为例,介绍了实现平面研磨工艺要求的几种方法及研磨轨迹的特性及优缺点.平面研磨轨迹的研究 - 百度文库

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